• Progettazione ad altissima purezzaDispone di una finitura superficiale di 10 Ra microinch/0,25 micron per eliminare la contaminazione da gas, garantendo la conformità ai requisiti di semiconduttore, farmaceutici e di ricerca.
• Alta sensibilità: le regolazioni perfezionate consentono una regolazione precisa della pressione, fondamentale per applicazioni quali la strumentazione analitica e la cromatografia a gas.
• Basso calo di pressione: riduce il consumo di energia e l'usura del sistema, migliorando l'efficienza complessiva nei processi ad alto flusso.
• Durabilità: costruito con acciaio inossidabile 316L e valvole interne Hastelloy® per la resistenza alla corrosione in ambienti aggressivi.

• Manipolazione della pressione: ingresso fino a 3500 psig/241 bar; uscita regolabile a 150 psig/10,3 bar.
• Resistenza alle perdite: per gas pericolosi o costosi, a bassa perdita (< 10−7 mbar·L/s di elio).
• Intervallo di temperatura: -40°C a 71°C (-40°F a 160°F) con sedili PFA in Teflon.

• Fabbricazione di semiconduttoriDistribuzione del gas nelle sale pulite e produzione di wafer.
• Attrezzature di laboratorio: spettrometria di massa, sistemi laser e analisi dei gas.
• Manipolazione dei gas industriali: armadi dei cilindri, scatole delle valvole e alimentatori speciali di gas.

• Versatilità: adattabile ai gas corrosivi (ad esempio, NH3, Cl2) e ai media inerti con configurazioni personalizzabili.
• Sicurezza: la progettazione statico-dissipativa riduce al minimo i rischi di infiammazione dei gas piroforici.
• Rispetto: soddisfa le norme USP Classe VI, BPE e ISO 17025 per i flussi di lavoro biofarmaceutici e analitici.

64-3600 Esemplare di riferimento di prodotto della serie TESCOM di regolatori ad alta sensibilità